CVD-1700系统由SGL-1700真空管式炉，HQF-Ⅲ浮子混气系统，内置测温系统及真空系统等组成。此系统烧结温度可达1700℃；真空泵采用双极旋片真空泵，真空度可达到5x10-1Pa；可实现不同的1~3路气体混合；内置测温系统可实时监测反应管内的温度变化。 | |
主要功能和特点： 1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，最高真空可达0.0001Pa； 2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制； 3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。 4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用世界顶级Swagelok卡套连接，不漏气； 5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。 | |
主要用途： 高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。 | |
主要技术参数： | |
SGL-1700真空管式炉 | 双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温； 日本技术真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能好 加热元件采用进口优质U型硅钼棒，表面负荷高，大大提高了其使用寿命 |
电压 | AC220V 50/60Hz |
功率 | 6KW |
炉管 | 采用99氧化铝刚玉管，致密度高，经久耐用，不易断裂 尺寸：Φ40/60/80*/1000mm 4个氧化铝管堵 |
法兰及支撑 | SUS304不锈钢快速水冷法兰，长期水冷无腐蚀 一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷 可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑 包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合，4个密封硅胶圈等 |
加热系统 | 加热元件：6根U型硅钼棒 加热区长度：280mm 恒温区长度：100mm 工作温度：≤1600℃ 最高温度：1650℃ 升温速率：≤10℃/min |
温控系统 | 温度控制采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能 50段升降温程序 测温元件：B型双铂铑热电偶 恒温精度：±1℃ |
HQF-Ⅲ混气系统 | 三路浮子流量计配置在移动工作台上，可以同时通入三路不同的气体 内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀 管路采用聚四氟乙烯软管，耐温耐腐 每路气体进气管路配有不锈钢针阀 流量规格：0.3~3L/min 控制精度：±5% |
低真空系统 | 采用双极旋片真空泵，真空度可达5x10-1 Torr 不锈钢充油真空压力表，良好的抗震性 |
内置测温系统 | 测温元件可从加热区边缘延伸至温区中心 法兰密封，保证炉管的密封性 测温元件：B型双铂铑热电偶 |
尺寸 | 高温炉：660*580*910mm 混气移动工作台：800*540*720mm |
可选配件 | HQZ混气系统,中、高真空系统，各种刚玉坩埚，刚玉管，计算机控制App，无纸记录仪，氧含量分析仪，冷却水循环机等。 |
